無錫冠亞—品牌—大型生產高低溫tcu控制器

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　TCU主要用于反應釜集中控溫的，般是配套使用，在使用TCU反應釜的時候，定要注意清洗，要不然會影響TCU反應釜的高效運行。

　　TCU反應釜機械清洗：

　　TCU反應釜機械清洗的時候，采用高壓清洗裝置，使用高壓水流通過噴頭沖刷，將反應釜內壁及攪拌器表面上的堅硬垢物擊碎，*剝離并清除掉。

　　TCU反應釜機械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮高壓，然后通過伸入釜內的清釜機器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉變為水流的動能，通過這個能量對壁面污垢進行沖擊實現清洗、清除的效果。

　　TCU反應釜機械清洗是單純的物理清洗，所使用的介質為水，成本非常低，但是效率非常高，高壓水清洗所用時間短，與手工清洗相比較，能節省大量人力、物力、財力，還不會對TCU反應釜造成損傷。

　　與原來手工清除相比，年下來能夠節省大塊的停釜清洗時間，若將這部分時間用于生產，將能額外產生可觀的經濟效益。同時，高壓水不會對反應釜內壁造成任何損傷。目前在化工行業，高壓水射流清洗已經逐步成為清洗方法的主流。

　　TCU反應釜化學清洗：

　　TCU反應釜在進行化學清洗的時候，需要知道反應釜設備內的垢樣成分，好是取樣分析。確定污垢成分后先做試驗，選用清洗劑同時通過試驗確定對設備金屬不會造成腐蝕。然后通過現場架設臨時循環裝置將清洗液在設備內循環流動，洗去污垢。

　　在進行TCU反應釜清洗的時候，先用適量的水沖洗攪拌槳及釜內壁，放盡，將溶劑通過加壓裝置流沖刷反應釜。如未達到清洗效果，向反應釜中加入適量的溶劑升溫攪拌回流達到清洗要求，然后將溶劑放出， 后用定量的溶劑沖洗反應釜內壁，放出。

　　TCU反應釜人工進釜手工清除：

　　TCU反應釜人工進釜手工清除成本是很低的，但是進釜之前需要數小時的通風換氣，清除過程中還須隨時監視釜內氧氣濃度，有缺氧的危險；同時人工刮鏟除了不能*清理之外，還會造成反應釜內壁的滑傷，這些滑痕客觀上造成了殘留物的進步附著。人進釜清理也會造成產品衛生上的問題。般來說，清理臺釜所需時間約為半天天。

　　TCU反應釜清洗的三種方法各有利弊，機械清洗不會對設備產生腐蝕，對硬垢可以有效清洗，但是用時長、勞動強度大；化學清洗用工少，清洗時間短，清洗*，但是可能會造成設備被腐蝕；人工進釜手工清除成本低，但是危險性較大，不能*清理干凈。因此化學清洗應用在污垢較軟、薄的工況，機械清洗應用在污垢硬、厚的工況。

　　這三種TCU反應釜清洗的知識希望能幫助到大家更加高效安全的使用反應釜。

　TCU控溫單元ZLF-200N是反應釜控溫方面使用比較多的型號，對于需要購買的客戶來說，了解其功能是非常必要去了解的課題。

　　TCU溫度控制單元是在化工、制藥等多種行業需要反應釜控制的時候并使用的，多臺反應釜制冷加熱控溫系統簡稱TCU。TCU溫度范圍從-25℃200℃，其他溫度范圍需要定制寬（-50℃250℃）般是2～20臺反應釜集中式控制，每臺反應釜均可以立設定物料溫度、夾套溫度，實現臺加熱換熱主機和多臺載冷劑控制換熱單元不同臺反應釜目標溫度。

　　TCU控溫單元ZLF-200N更加控制，采用精準算法控制冷凍介質和加熱介質進入反應釜流體閥門的導通角，精準控制進入反應釜夾套制冷加熱流體的流量。TCU控溫單元ZLF-200N從高溫往低溫降溫時，和加熱主機沒有關系，只是把夾套重點額導熱介質溫度降低。

　　TCU控溫單元ZLF-200N采用超高溫柔性降溫技術，TCU控溫單元可以從高溫250度降溫通入冷卻水過程中，不會有水蒸氣產生，水溫溫升控制在40度以內，可以降低換熱器結垢風險。

　　TCU控溫單元ZLF-200N在配置上面標配為換熱器為板式換熱器，提高冷卻及制冷速率，10寸彩色TFT觸摸屏圖形顯示、USB數據導出接口、RS485通信接口、工控組態軟件，可運用工廠現有的制冷系統、加熱系統，降低投入成本。

　　TCU控溫單元ZLF-200N是擁有非常寬的溫度范圍，無需更換液體介質（見導熱介質運用），高精度、智能型溫度控制，全密閉系統，延長導熱液體壽命，性能*、。

　　另外，TCU控溫單元ZLF-200N還可以配置多功能報警系統和安全功能，如果有需要定制防爆型的TCU，也可以TCU專業廠家——無錫冠亞，私人訂制TCU。

　　高的生產穩定性和可重復性結果（提高生產產品的穩定性）

　　如果TCU控溫單元ZLF-200N不能滿足大家，另外還有ZLF-35N、ZLF-50N、ZLF-80N、ZLF-125N等系列型號也可供大家選擇。

標簽:   TCU