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| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區間 | 10萬-20萬 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制
反應釜配套制冷加熱控溫系統應用：
反應釜配套制冷加熱控溫系統?泛應用于?油、化?、橡膠、染料、醫藥、?品等?產型用戶和各種科研實驗項?的研究用來完成?藝過程的容器。無錫冠亞制冷加熱控溫系統控溫時溫度穩定、升降溫速率快、可連續穩定運行、實時記錄反應過程溫度。
微通道反應器配套制冷加熱控溫系統應用：
微通道反應器配套制冷加熱控溫系統可執行不同類型的反應，可用于微反應丁藝開發及精細化學品合成。無錫冠亞制冷加熱控溫系統寬溫度范圍，?精度智能溫控，單流體控溫，無需更導熱介質穩定?產。
新能源汽車制冷加熱測試系統應用：
新能源汽?行業，制冷加熱控溫系統主要應用在測試、檢測臺架和材料測試等環節。無錫冠亞制冷加熱控溫系統可同時對多個樣品進行溫度控制，控制系統可記錄與導出測試過程中的溫度數據，可滿??部分元件在特定的溫度變化條件下測試。
半導體行業制冷加熱測試系統應用：
制冷加熱控溫系統應用于半導體、LED、LCD、太陽能光伏等領域。芯片、模塊、集成電路板、電子元器件等提供準確且快速的環境溫度。無錫冠亞制冷加熱控溫系統是對產品電性能測試、失效分析、可靠性評估的儀器設備。
型號 | SUNDI-125 SUNDI-125W | SUNDI-135 SUNDI-135W | SUNDI-155 SUNDI-155W | SUNDI-175 SUNDI-175W | SUNDI-1A10 SUNDI-1A10W | SUNDI-1A15 SUNDI-1A15W | |||||||
介質溫度范圍 | -10℃～+200℃ | ||||||||||||
控制系統 | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | ||||||||||||
溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇 | ||||||||||||
溫差控制 | 設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定 | ||||||||||||
程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | ||||||||||||
通信協議 | MODBUS RTU 協議 RS 485接口 | ||||||||||||
外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) | ||||||||||||
溫度反饋 | 設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | ||||||||||||
導熱介質溫控精度 | ±0.5℃ | ||||||||||||
反應物料溫控精度 | ±1℃ | ||||||||||||
加熱功率 kW | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
制冷量 kW | 200℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | ||||||
20℃ | 2.5 | 3.5 | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | |||||||
-5℃ | 1.5 | 2.1 | 3.3 | 4.2 | 6 | 9 | |||||||
流量壓力 max L/min bar | 20 | 35 | 35 | 50 | 50 | 75 | |||||||
2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2.5 | ||||||||
壓縮機 | 海立 | 艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機 | |||||||||||
膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥 | ||||||||||||
蒸發器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | ||||||||||||
操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | ||||||||||||
安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | ||||||||||||
密閉循環系統 | 整個系統為全密閉系統，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質。 | ||||||||||||
制冷劑 | R-404A/R507C | ||||||||||||
接口尺寸 | G1/2 | G3/4 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | |||||||
水冷型 W 溫度 20度 | 600L/H 1.5bar~4bar G3/8 | 800L/H 1.5bar~4bar G1/2 | 1000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1200L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 1600L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2000L/H 1.5bar~4bar G3/4 | |||||||
外型尺寸(水）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | |||||||
外形尺寸 (風）cm | 45*65*120 | 50*85*130 | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 70*100*175 | |||||||
隔爆尺寸(風) cm | 45*110*130 | 45*110*130 | 45*110*130 | 55*120*170 | 55*120*170 | 55*120*170 | |||||||
正壓防爆(水）cm | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 110*95*195 | 120*110*195 | |||||||
常規重量kg | 115 | 165 | 185 | 235 | 280 | 300 | |||||||
電源 380V 50HZ | AC 220V 50HZ 3.6kW | 5.6kW | 7.5kW | 10kW | 13kW | 20kW | |||||||
選配風冷尺寸cm | / | 50*68*145 | 50*68*145 | 50*68*145 | / | / | |||||||
萃取用高低溫一體機 原料藥冷熱控溫系統
萃取用高低溫一體機 原料藥冷熱控溫系統
在化學工業中，結晶是一種廣泛使用的分離和純化技術。然而，結晶過程中溫度的控制對于產品的質量和產量具有影響。為了實現準確的溫度控制，制冷加熱控溫系統被廣泛應用于結晶過程。本文將探討結晶過程中制冷加熱控溫系統的應用及其重要性。
一、結晶過程的溫度控制
結晶是一種基于物質溶解度隨溫度變化的物理分離過程。在結晶過程中，目標物質從溶液中析出，形成固體晶體。這個過程通常需要在特定的溫度范圍內進行，以實現溶解度和晶體質量。因此，溫度控制對于結晶過程重要。
二、制冷加熱控溫系統在結晶過程中的應用
結晶過程中制冷加熱控溫系統可以將反應釜或結晶器的溫度準確地控制在預設范圍內，確保結晶過程的穩定進行。通過結晶過程中制冷加熱控溫系統，可以獲得更高質量的晶體產品，減少雜質和缺陷。在準確的溫度控制下，結晶過程可以更加穩定和有效地進行，從而提高生產效率。
